活動日期
2023/07/21(五),10:00-16:30（北+南+視）
活動資訊
■語言：日文演說，中文逐步口譯。
■內容：
EUV光刻(EUVL)技術從2019年開始量產。在尖端半導體製造中,前工程的三維結構晶體管元件技術以及後工程的三維實裝已成爲重要的技術。在前工序的微細加工技術中,根據IRDS的發展藍圖,EUVL將量產適用到0.5奈米世代。爲了進一步微細化，EUV光刻技術課題是EUV光刻膠開發、無缺陷EUV光罩開發、EUV防塵薄膜組件開發以及EUV光源開發技術。包括這些技術的現狀、針對各個課題所採取措施、以及包含下一代光刻的「High NA EUV光刻」、以及作爲EUV光刻的短波長化BEUV光刻可能性，對今後的發展進行說明。
1.半導體市場和微細加工的必要性
2.EUV光刻技術課題
3.EUV光刻膠材料·工藝技術
4.EUV光罩技術（包括EUV光罩缺陷檢查和防塵薄膜組件）
5.High NA EUVL光刻的課題
6.BEUV光刻技術的可能性
7.總結
■主講人
日本學研專家
／
1990年夏普(株)中央研究所，從事DRAM的研究開發。從事光刻、電子束光刻、X射線等倍曝光、極端紫外線光刻的半導體微細加工的研究開發。
1996年姬路工業大學高級產業科學技術研究所助理從事極端紫外線光刻的研究開發
2004年 兵庫縣立大學高度產業科學技術研究所助教、副教授、教授、EUV光刻研發中心主任。從事極端紫外線光刻的研究開發
2016年(同校)所長、校長特助（負責尖端科學研究）
■地點規劃：
✓台北會議室(講師+翻譯)
✓台南會議室
✓線上視訊
活動辦法
■報名洽詢：(02)2536-4647#10張小姐(電子郵箱sumken@sum-ken.com)
■優惠方案
-線上：限三人以上團報
-實體：5,250元、4,850元、4,250元/1、3、5人
※ 請於開課日期【前7天完成繳費】※中國信託銀行(822)城北分行 657-540116548三建資訊有限公司※
目前不在報名受理期間