活動日期
2023/10/23(一),09:00-16:00(北+南+視)
活動資訊
■主辦單位：經濟部產業發展署
■委託單位 : 財團法人資訊工業策進會
■承辦單位 : 台灣區電機電子工業同業公會
■執行單位：三建資訊有限公司
■計畫年度：112年智慧電子人才應用發展推動計畫
■學員資格：本國籍人士出席率8成且課後進行隨堂測驗、繳交學員基本資料表、個資同意書，方可適用補助。結訓學員應配合經濟部工業局培訓後電訪調查。
■招收人數：本班預計20人為原則，依報名及繳費完成之順序額滿為止。
■語言：日文演說，中文逐步口譯。
■內容：
近年來，半導體設備以驚人的速度發展。本研討會將說明半導體設備的物理清洗。
本課題將盡可能從工程學的基礎知識（半導體基礎、流體力學、電磁學、AI）進行說明，並從原理上詳細講解目前半導體設備製造過程中使用的物理清洗。
此外，講者還將介紹他擅長的半導體設備製造過程中，對於靜電干擾所採取的對策，並討論用於防止靜電干擾的AI技術。希望能為想要了解AI如何應用於半導體製程中的學員提供一些想法。
由於課程將介紹基礎知識，因此課程內容也適合從事半導體設備清洗相關工作3～4年的人員，以及正在尋找半導體設備清潔業務相關機會的人士。
1. 半導體設備的物理清洗的必要性
1-1. 半導體基礎知識
1-2. 半導體製造過程
1-3. 半導體設備製程中清洗的必要性
1-4. 化學清洗和物理清洗
2. 利用水流進行清洗
2-1. 流體力學基礎知識
2-2. 高壓噴霧清洗
2-3. 二流體噴霧清洗
2-4. 超音波噴霧清洗
2-5. 刷子清洗
2-6. 新一代物理清洗技術
3. 噴霧清洗時的靜電干擾
3-1. 靜電基礎知識
3-2. 清洗半導體設備時的靜電干擾
3-3. 噴洗時產生靜電及靜電干擾機制
4. 使用AI的半導體設備生產技術
4-1. AI基礎知識
4-2. 用於半導體製造的AI
4-3. 使用AI以防止靜電干擾的方式
■主講人
日本學界專家／專長於半導體元件清洗、有機電子學、品質管理。長來從事半導體元件和液晶面板等清洗設備的開發設計，從事有機元件的製作過程相關研究
■地點規劃：
✓台北會議室
✓台南會議室
✓線上視訊（限3位以上團報)
活動辦法
■報名洽詢：(02)2536-4647#10張小姐(電子郵箱sumken@sum-ken.com)
■優惠方案
經濟部產業發展署補助4,000元，學員自付6,000元、5,000元、4,500元/1、2、3人
※參加線上視訊，限3位以上團報。
※ 請於開課日期【前7天完成繳費】，中國信託銀行(822)城北分行 657-540116548三建資訊有限公司※
目前不在報名受理期間