【日本專家】半導體清洗的要點，及出現問題時的對策

活動日期
2023/11/02(四),09:00-16:00(北+南+視)

活動資訊
■主辦單位：經濟部產業發展署
■委託單位 : 財團法人資訊工業策進會
■承辦單位 : 台灣區電機電子工業同業公會
■執行單位：三建資訊有限公司
■計畫年度：112年智慧電子人才應用發展推動計畫
■學員資格：本國籍人士出席率8成且課後進行隨堂測驗、繳交學員基本資料表、個資同意書，方可適用補助。結訓學員應配合經濟部工業局培訓後電訪調查。
■招收人數：本班預計20人為原則，依報名及繳費完成之順序額滿為止。
■語言：日文演說，中文逐步口譯。
■內容：
【習得知識】
・構成先進材料清洗方法的要素
・根據目的定義「清洗」
・清洗表面的處理
・流體的使用方法、製作方法
・清洗條件設計的盲點
・生產過程中常見的工程現象（流體、氣泡等的運動和設計）
【課程主旨】
為了直觀地了解半導體清洗，我們將以一天的時間解釋其基礎現象和要點，以及遇到困難時的解決對策。重新思考對於半導體來說，「清潔」、「乾淨」意味著什麼？透過觀看影片便能明白清洗過程，以及如何進行清洗。
課程中，將觀看影片來感受清洗流程，透過動畫和計算示例了解單晶圓清洗機和批量式清洗機的流程，同時，藉由流體和氣泡的影片理解超音波的效果。接著會說明在清洗極微細尺寸之圖形時，經常會忽略的問題。最後，我們將介紹遭遇困境時的觀點和應對措施。由於本課程將解釋從工程基礎知識到實際應用之間的所有內容，因此對於非半導體清洗領域人員和其他技術工程師也將有所幫助。
1. 半導體清洗的基本現象：（化學溶液和流體的效果）
  1.1 表面現象與過程：（附著、脫離、剝離、乾燥）
  1.2 流體、熱、擴散、反應：（清洗=去除污垢的操作）
  1.3 設備內流體的類型：（完全混合、活塞流、邊界層）
  1.4 流體的可視化觀察：（視覺感受「流動」和「擴散」）
2. 清洗機中的流體和反應
  2.1 單晶圓清洗機
    2.1.1 水流：（觀看影片和計算示例）
    2.1.2 化學反應示例：（也可得知表面反應）
  2.2 批量式清洗機
    2.2.1 水流（觀看影片和計算示例）
    2.2.2 優化水流（改變進水口和出水口）
  2.3 超音波的作用、水和氣泡的運動（觀看影片）
 
■主講人
日本專家／橫濱國立大學 名譽教授、信越半導體退役專家（今 信越化學工業）
 
            ■地點規劃：
             ✓台北會議室
             ✓台南會議室
             ✓線上視訊（限3位以上團報)

活動辦法
■報名洽詢：(02)2536-4647#10張小姐(電子郵箱sumken@sum-ken.com)
■優惠方案
經濟部產業發展署補助4,000元，學員自付6,000元、5,000元、4,500元/1、2、3人
※參加線上視訊，限3位以上團報。
※ 請於開課日期【前7天完成繳費】，中國信託銀行(822)城北分行 657-540116548三建資訊有限公司※

 

目前不在報名受理期間

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